當(dāng)前位置:首頁 ? 常見問題 ? 這樣電鍍填充印制線路板能保障HDI板盲孔的平整度
電子設(shè)備輕,薄,小的要求,不斷的擠壓線路板自身的尺寸,于是線路板的設(shè)計只能走多層,細線,微孔的路線。為了不影響板的強度和電器性能,現(xiàn)在線路板中設(shè)計盲孔已經(jīng)是干需。一般來說,如果選擇垂直線進行電鍍,盲孔中的電鍍液對流性差以及其他因素使得盲孔填充工藝難上加難。特別是現(xiàn)在的高密度埋盲孔電路板,怎么樣電鍍填充能保障HDI電路板盲孔的平整度呢?
首先,高超的工藝和設(shè)備的要求。
酸性電鍍銅添加劑中包含著加速劑,抑制劑,載體等主要成分,他們的作用和功能各異,電鍍的效果取決于特么的協(xié)同效益。作為盲孔電鍍的添加劑,如果繼續(xù)采用常規(guī)的方式,很難得到理想的填充效果,因為加速劑在孔周的吸附濃度遠大于盲孔內(nèi)壁和底部吸附濃度,銅離子在孔周的交換深度也大于孔內(nèi),因此在孔周鍍層增長速度遠大于孔底和孔壁,最終結(jié)果孔底和孔內(nèi)壁鍍層增長速度低于孔口鍍速,是孔內(nèi)出現(xiàn)空洞??斩闯霈F(xiàn)的位置和現(xiàn)象不同,產(chǎn)生的差異也各異,有的是因為底層問題,有的因為電鍍參數(shù)設(shè)計不合理等。要想有效的解決這個問題,僅僅對配方中各個有效成份的配比進行調(diào)整是不夠的,在工藝流程上做一些改進能收到意向不到的效果。
二,優(yōu)化電鍍工藝流程和控制參數(shù)表如下(表一):
工藝步驟 | 時間(sec.) | 溫度(℃) | 其他要求 |
酸性除油 | 180 | 30 | 震動 |
水洗一 | 40 | 25 | |
水洗二 | 60 | 25 | |
微蝕 | 20 | 25 | 震動 |
水洗 | 40 | 25 | |
DI水洗 | 60 | 25 | |
預(yù)寖 | 300 | 25 | 震動 |
電鍍銅 | 0.75ASD,電鍍15分鐘+1.5ASD電鍍60~90分鐘 | ||
其他控制參數(shù) | |||
S 陽: S陰 | ~1.5:1 | ||
噴射泵流速 | 10GPM | ||
預(yù)寖液配置 | IMT-390H A 0.25%(v/v) 濃硫酸 0.25%(v/v) | ||
電鍍銅槽配制 | 五水硫酸銅 180`220 克每升 濃硫酸 90~120 克每升 氯離子 60~80ppm IMT-390HB 5-10毫升每升 |
需要說明的是,表一中的流程對各種設(shè)計要求的板基板一致,但電鍍控制參數(shù)則需根據(jù)用戶要求和孔徑及深度,盲孔,銅孔,分布狀況等作用做相應(yīng)的調(diào)整。具體的操作參數(shù)根據(jù)試樣板試鍍結(jié)果而定。
流程中的預(yù)寖過錯不同于普通電鍍中的酸洗,在此槽液中,含有幾種功能的電鍍加速劑,這樣做的目的在于,在電鍍前讓盲孔和通孔內(nèi)壁充分吸附加速劑,進度電鍍槽后,由于吸附在盲孔內(nèi)的加速劑比板面所吸附的高,因此鍍層增長速度要明顯高于板面銅增長速度。對板上的通孔也是由于同樣的理由基本上能保證孔內(nèi)鍍層厚度均勻,從而得到良好的電鍍效果。
表一中還列出了噴射泵流速。這是因為傳統(tǒng)的陰極移動加空氣攪拌的垂直線電鍍方向已經(jīng)不可能圓滿完成盲孔填充任務(wù)的,必須在此基礎(chǔ)上對設(shè)備進行適當(dāng)?shù)母脑?,如:添加高速循環(huán)泵;在陰極兩側(cè)添置噴射管等。讓循環(huán)泵高速流出鍍液,經(jīng)噴射管到板面上,從而加強盲孔內(nèi)鍍也循環(huán)和流動。很多設(shè)備商已經(jīng)在此基礎(chǔ)上相當(dāng)成功的研究,生產(chǎn)線上不乏成功使用的范列。
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