陶瓷基板常用導電材料的種類及特性
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陶瓷基板
陶瓷材料因其密度較小,熱導率較高,膨脹系數(shù)匹配,是一種綜合性能較好的封裝材料。由于陶瓷封裝對可靠性、氣密性、高頻傳輸性等性能需求,勢必要用到金屬導體來提升陶瓷共燒技術。又因金屬材料與陶瓷材料性質(zhì)差異大,在共燒陶瓷技術中往往需要使用作為燒結(jié)助劑的導體漿料來促進金屬與陶瓷的連接。本文,我們來分析陶瓷基板制造中常用到的導電材料。Mo-Mn導電相作為陶瓷金屬化工藝中最早引 入的一種導電相,最早由La Forge在1956年提出了活化Mo-Mn 法的概念。它在國內(nèi)的應用則開始較晚,主要也是在國外進展的基礎上,進行了一系列的研究。
目前,金屬化工藝大多采用活化 Mo—Mn 法。主要用于95- Al2O3瓷、99-Al2O3等高純氧化鋁瓷、Al2O3單晶(藍寶石)、ZrO2陶瓷以及 ZrO2增 韌-Al2O3(ZTA)等陶瓷。采用活化Mo—Mn法金屬化后所得的陶瓷金屬接頭強度較高,氣密性較好。W粉的粒度和形貌對導體漿料的印刷性能、燒結(jié)狀 態(tài)和導電性能都有著重要影響:粒度過大,不易燒 成;粒度過小,則存在過燒的風險;W粉形貌不均勻,則其顆粒比表面積較大,配制的漿料粘度就會 過大;W粉的燒成狀態(tài)差,相應的導電性能也會變差。W粉主要用在高溫陶瓷基板中,目前,業(yè)界人士研究了W粉顆粒分級對氧化鋁陶瓷金屬化方阻的影響,發(fā)現(xiàn)0.5μm和1μmW粉混合能顯著 降低方阻,且當兩者質(zhì)量比為45:55時,得到的金屬化 方阻最小。
Mo也是常用在在高溫陶瓷基板中的導電材料,其熔融溫度和硬度均低于W,更容易整形,使用Mo作為導體漿料的導 電相可以有效降低高溫瓷金屬化的燒成溫度,這使 得Mo金屬化在國內(nèi)外陶瓷封裝外殼生產(chǎn)企業(yè)中占有重要位 置。但Mo粉在生產(chǎn)、運輸、儲存和金屬化膏劑制 備過程中易發(fā)生團聚現(xiàn)象,不耐化學腐蝕且在鍍鎳 后易發(fā)生起泡現(xiàn)象等原因限制了Mo在高溫瓷金屬 化中的大范圍應用。目前研究得到結(jié)論是,1、濕磨工藝處理的Mo粉應用在95%Al2O3陶瓷 上,可使金屬化封接強度得到顯著提高。2、可以通過濕氫生產(chǎn)形貌完整、大小均勻、分散 好的大顆粒Mo粉。3、減小電流密度 延長電鍍時間的方法,能有效抑制Mo金屬化電鍍 起泡現(xiàn)象。W-Cu導體材料結(jié)合了W的高熔點、高密度、低熱膨脹系數(shù)和Cu的高電導率、高熱導率,以及良好的延展性等優(yōu)點,常用于中溫陶瓷共燒環(huán)境中,但當使用W-Cu材料和陶瓷基板共燒時,Cu易燒失的缺點就會暴露出來。 目前行業(yè)通常采用的解決辦法是:1、向?qū)w漿料中加入銀、鈷、 鐵、鋅、鈦等微量的活化元素,通過降低W與Cu之間的潤濕角來抑制Cu的燒失。2、通過改善W-Cu粉體的制備方式來改 善W-Cu合金與陶瓷基板共燒后的燒結(jié)狀態(tài)。Cu的導熱系數(shù)高,將Cu加入Al2O3陶瓷,在高溫環(huán)境下,Cu表面氧化生成一層薄的Cu2O共晶液相,Cu2O 可以很好地潤濕Al2O3陶瓷和Cu。當加熱溫度高于共晶溫度且低于Cu熔化溫度時,液相中Cu2O與Al2O3發(fā)生化學反應時,生成 CuAlO2/CuAl2O4二元氧化物,在Cu與陶瓷之間形成一層很薄的過渡層,在過渡層的作用下實現(xiàn)銅材與陶瓷的連接。Ag具有良好的強度、韌性、導電性、導熱性和抗腐蝕性,是應用極廣的硬纖料。在Ag中加入Cu形成共晶可以有效降低熔化溫度,又不會形成脆性相。Ag-Cu合金的熔點適中,固相線為889℃,工藝性好,適合各種纖焊工藝。同時,Ag-Cù的彈性模量E和屈服極限小,有利于釋放接頭中的殘余應力,這對改善纖焊接頭的力學性能有益,所以在釬焊陶瓷時用它作為中間層材料可顯著提高接頭性能。此外,在相關研究中,表明Ag-Cu-Ti活性釬料中引入了金屬 Zn,利用其在真空環(huán)境中具 有較高的飽和蒸汽壓且極易發(fā)生揮發(fā)的特性,有效地優(yōu)化了釬焊界面中 Ag-Cu 共晶 的結(jié)構,成功地改善了液態(tài)釬料在陶瓷表面的鋪展及潤濕行為,進而極大地提高了Al2O3/Cu 接頭的封接性能。Al有延展性,在潮濕空氣中能形成一層防止金屬腐蝕的氧化膜。隨著航空、建筑、汽車三大重要工業(yè)的發(fā)展,要求材料特性具有鋁及其合金的獨特性質(zhì),這就大大有利于Al的生產(chǎn)和應用。Al2O3陶瓷具有強度高、硬度高、耐高溫、抗腐蝕、耐磨以及絕緣性能好等優(yōu)異 特性,在許多工程應用中需要與金屬連接起來,以期獲得陶瓷-金屬復合構件,更好 地發(fā)揮 Al2O3陶瓷在作為結(jié)構材料及電絕緣材料方面的優(yōu)越性能。AlN 陶瓷由于具有高熱導率、低介電常數(shù)、與單晶硅相匹配的熱膨脹系數(shù)及良好的電絕緣性能。例如,在Al2O3 陶瓷中增添了 AlN 陶瓷的預氧化過程。此外,陶瓷基板制作中常采用在元素周期表中處于過渡區(qū)間的金屬元素如Ti、Zr、Hf等,這些元素是有很強的化學活性,對氧化物和硅酸鹽等有較大的親和力,能夠潤濕原本化學惰性的陶瓷表面并與陶瓷表面的氧、碳、氮或硅發(fā)生化學鍵合,其在接合界面分別形成氧化物、碳化物、氮化物或硅化物反應產(chǎn)物。從而在接頭表面形成一個反應層,這為陶瓷表面增加了更高程度的金屬特性。